產(chǎn)品名稱：國產(chǎn)電化學(xué)工作站
更新日期：2025-04-24
產(chǎn)品型號(hào)：LK98BII
產(chǎn)品特點(diǎn)：LK98BII國產(chǎn)電化學(xué)工作站在科學(xué)研究領(lǐng)域廣泛應(yīng)用于電化學(xué)機(jī)理研究，電極過程動(dòng)力學(xué)研究、材料、金屬腐蝕、生物學(xué)、醫(yī)學(xué)、藥物學(xué)、環(huán)境生態(tài)學(xué)等多學(xué)科領(lǐng)域的研究。
LK98BII國產(chǎn)電化學(xué)工作站的詳細(xì)資料：
LK98BII 國產(chǎn)電化學(xué)工作站是新研制開發(fā)的高檔次多功能電化學(xué)分析儀器。本系統(tǒng)是國家科技部 2000 年火炬計(jì)劃項(xiàng)目，是教育部實(shí)施“211 工程”，面向招標(biāo)的中標(biāo)產(chǎn)品，是教育部頒發(fā)的“基礎(chǔ)課教學(xué)實(shí)驗(yàn)室建設(shè)方案”所列*儀器。LK98BII 電化學(xué)分析系統(tǒng)(工作站)提供的方法多，可以一機(jī)多用，即可以在同一臺(tái)儀器上開出三十多種不同方法的電化學(xué)與電分析化學(xué)實(shí)驗(yàn)，使用靈活方便，實(shí)驗(yàn)曲線實(shí)時(shí)顯示，使實(shí)驗(yàn)過程更加直觀、方便。另外，該儀器在科學(xué)研究領(lǐng)域廣泛應(yīng)用于電化學(xué)機(jī)理研究，電極過程動(dòng)力學(xué)研究、材料、金屬腐蝕、生物學(xué)、醫(yī)學(xué)、藥物學(xué)、環(huán)境生態(tài)學(xué)等多學(xué)科領(lǐng)域的研究。例如測(cè)定環(huán)境樣品(廢水、廢氣、廢渣等)中的污染物無機(jī)金屬離子、有機(jī)物(酚類、酮類、芳香族化合物)污染分析，農(nóng)藥分析等；分析測(cè)定食品樣品中金屬離子、色素、味素、防腐劑、維生素、氨基酸、致癌物等；石油化工產(chǎn)品； 理化分析、試劑分析、臨床檢驗(yàn)、藥物與藥物中間體分析、冶金分析、生化、放化及核污染分析等。
一、性能特點(diǎn)
(1) 32 位 Windows 中文界面
測(cè)試系統(tǒng)軟件采用 32 位 Windows 風(fēng)格的軟件界面，操作簡單直觀。實(shí)時(shí)觀察窗口、圖形數(shù)據(jù)一體化窗口的運(yùn)用，使得測(cè)試過程直觀高效。軟件在運(yùn)行中，對(duì)用戶的操作及數(shù)據(jù)的有效性、完整性進(jìn)行了充分地檢查，適時(shí)給出提示或警告。
(1) 數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)顯示
LK98BII 具有數(shù)據(jù)列表功能，能夠?qū)崟r(shí)顯示測(cè)量結(jié)果和打開文件的數(shù)據(jù)，確保你方便地查看實(shí)驗(yàn)結(jié)果。
(1) 強(qiáng)大的數(shù)據(jù)及圖形處理
LK98BII 微機(jī)電化學(xué)系統(tǒng)上位機(jī)軟件可直接處理數(shù)據(jù)點(diǎn)，并能以十余種圖形方式顯示測(cè)量結(jié)果，觀察實(shí)驗(yàn)結(jié)果十分方便。
二、工作環(huán)境
1)環(huán)境溫度：-15oC ~ 45 oC
2)環(huán)境相對(duì)濕度：< 75%
3)儀器四周通風(fēng)良好，空氣中不含腐蝕性氣體。
4)儀器周圍無強(qiáng)電磁場(chǎng)干擾。
5)當(dāng)交流幅值<10mV 時(shí)，電解池需要利用 Faraday 箱進(jìn)行屏蔽。
6)電源電壓：AC220V(50Hz)±10%。三、可提供的電化學(xué)方法：(40 種方法)
恒電位技術(shù)：單電位階躍計(jì)時(shí)電流法、雙電位階躍計(jì)時(shí)電流法、計(jì)時(shí)電量法、電流—時(shí)間曲線、開路電位
--時(shí)間曲線、控制電位電解庫侖法、電位溶出 E-T 曲線、微分電位溶出分析法。
線性掃描技術(shù)：線性掃描伏安(極譜)法、循環(huán)伏安法及無限次循環(huán)伏安、塔菲爾曲線、采樣電流伏安(極譜)法、線性掃描溶出伏安法。
脈 沖 技 術(shù)：常規(guī)脈沖伏安(極譜)法、差分脈沖伏安(極譜)法、差分常規(guī)脈沖伏安(極譜)法、差分脈沖溶出伏安法。
方波技術(shù)： 方波伏安(極譜)法、循環(huán)方波伏安法、方波溶出伏安法。
交流技術(shù)： 交流伏安法、選相交流伏安法、二次諧波交流伏安法、交流溶出伏安法
恒電流技術(shù)：單電流階躍計(jì)時(shí)電位法、雙電流階躍計(jì)時(shí)電位法、線性電流計(jì)時(shí)電位法、控制電流電解庫侖法。
電化學(xué)檢測(cè)方法：電位分析-工作曲線法、電位分析-標(biāo)準(zhǔn)加入法、恒電位安培檢測(cè)、方波電位安培檢測(cè)。四、技術(shù)規(guī)格
1 恒電位/恒電流
電位分辨率() 0.1mV 電流靈敏度 ≤50pA 時(shí)間分辨率(計(jì)時(shí)分析法) 1uS
2 動(dòng)態(tài)參數(shù)調(diào)整
電勢(shì)控制范圍: -10.0～+10.0V 恒電流范圍: -500～+500mA
槽 壓:-50V～+50V 電位增量: 0.1mV～50V
脈沖寬度: 0.0001～10Sec 方波頻率: 1～100KHz
交流頻率: 1～10KHz 二次諧波交流頻率: 1～1KHz
采樣間隔: 0.0001～60000Sec 平衡時(shí)間: 0～60000Sec
濾波參數(shù): 50Hz～1000KHz 電勢(shì)信號(hào)掃描范圍: 10.0V
掃描速度: 0.1mV/S～5000V/S(△E=1mV) 脈沖間隔: 0.0001～60000Sec
脈沖振幅: 0.001～0.5V 方波幅度: 0.001～0.5V
交流幅度: 0.001～0.4V 電解時(shí)間: 1～60000Sec
電沉積時(shí)間: 0～60000Sec 電流測(cè)量范圍: ±100mA～±10nA (8 個(gè)量程檔位) 低噪聲程控放大: 1～64 倍
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